半导体行业洁净车间洁净室解决方案是什么？
在半导体洁净车间行业，生产工艺的环境中，有抗静电、防微振、高洁净度、恒温恒湿、照度、废气废水排放，大宗气体和特殊气体排放等要求，且各种配套系统繁多复杂，个别区域的洁净室洁净度要求甚至达到十级的标准。
1.洁净度
半导体净化车间要确保高洁净度，必须要对粉尘严格控制，保证粉尘只出不进，因此净化车间要保证正压。建议在空调机组的基础上，加装大型鼓风机，利用鼓风机将经净化设备的空气连续不断地输入车间内。
2.恒温恒湿
保持车间内恒温恒湿，空调机组与鼓风加压系统统一设计搭配使用。鼓风机与空调系统同开同关，必须保证车间内温湿度的稳定。
3.气流走向
半导体净化车间内设计的空气流动方向大部分以由上往下为主，因此，在人物流及工艺流程设计时要尤其注意，提前规划空间设计，避免机械设备摆放突兀，将尘埃细菌等在净化车间内回旋停滞的机会与时间减至最低程度。
4.建材使用
所有建材均要求平顺光滑，以不易产生静电吸附的材质为宜，从内部断绝静电的停留。
5.风淋及除尘
除了科学设计人物流通道，尽量降低人物流移动对气流及粉尘的影响，所有人物流进出洁净车间，人必须穿配套防尘服，经风淋室除尘，物体非必要严禁进入洁净车间内，日常通过物体必须经过风淋室吹淋以将表面粉尘除掉。
6.内水使用
半导体净化车间内使用且只限于去离子水。去离子水可以有效防止水中粉粒污染晶圆，还可以防止水中重金属离子(如钾、钠离子)污染金氧半晶体管结构之带电载子信道，影响半导体组件的工作特性。
7.气源使用
半导体净化车间所有用得到的气源，包括吹干晶圆及机台空压所需要的，都得使用氮气 (98%)，吹干晶圆的氮气甚至要求99.8%以上的高纯氮。
技术的发展真的可以用日新月异来形容企业客户在挑选净化工程公司时，有哪些注意事项？具体可分为5条注意事项即：了解主体业务、查看公司资质，查看工商信息、实地勘察、货比三家。
附洁净度相关知识：
洁净度指洁净空气中空气含尘（包括微生物）量多少的程度。
净度100级:大于等于0.5μm的尘粒数大于350粒/m3（0.35粒/L）到小于等于3500粒/m3（3.5粒/L），大于等于5μm的尘粒数为0。
≥0.5μm；0.35粒/L<尘粒数≤3.5粒/L≥5μm；尘粒数=0
洁净度1000级:大于等于0.5μm的尘粒数大于3500粒/m3（3.5粒/L）到小于等于35000粒/m3（35粒/L），大于等于5μm的尘粒数小于等于300粒/m3（0.3粒/L）。≥0.5μm；0.35粒/L<尘粒数≤3.5粒/L≥5μm；尘粒数=0
≥0.5μm；3.5粒/L<尘粒数≤35粒/L≥5μm；尘粒数≤0.3粒/L
洁净度10000级:大于等于0.5μm的尘粒数大于35000粒/m3（35粒/L）到小于等于350000粒/m3（350粒/L），大于等于5μm的尘粒数大于300粒/m3（0.3粒/L）到小于等于3000粒/m3（3粒/L）。
洁净度100000级:大于等于0.5μm的尘粒数大于350000粒/m3（350粒/L）到小于等于3500000粒/m3（3500粒/L），大于等于5μm的尘粒数大于3000粒/m3（3粒/L）到小于等于30000粒/m3（30粒/L）。
洁净度300000级:大于等于0.5μm的尘粒数大于3500000粒/m3（3500粒/L）到小于等于10500000粒/m3（10500粒/L），大于等于5μm的尘粒数大于30000粒/m3（30粒/L）到小于等于90000粒/m3（90粒/L）
≥0.5μm；3500粒/L<尘粒数≤10500粒/L≥5μm；尘粒数≤90粒/L
